国家知识产权局信息显示，云南光电辅料有限公司申请一项名为“一种半导体基板CMP抛光用抛光液补偿装置”的专利，公开号CN121928461A，申请日期为2026年3月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种半导体基板CMP抛光用抛光液补偿装置，涉及抛光液补偿技术领域。该装置包括机柜、防护罩、抛光垫、喷头、混合储液罐、补液组件及抛光液智能调控系统，由浓度检测与分析、补液决策与控制、搅拌协同调节、状态监测与预警模块组成。浓度检测与分析模块通过多组浓度传感单元采集罐内不同区域浓度信号，结合CMP工艺动态参数，经多维度数据融合算法分析浓度变化趋势并预判偏差；补液决策与控制模块基于浓度偏差数据，通过自适应PID控制算法计算目标补液量及速率，控制补液组件切换补液类型。本发明实现了抛光液补偿的精准化、智能化，解决了现有装置中抛光液易分层沉淀、活性成分变质、浓度动态响应滞后及基板抛光一致性偏差的问题。

　　天眼查资料显示，云南光电辅料有限公司，成立于1999年，位于昆明市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本386.7万人民币。通过天眼查大数据分析，云南光电辅料有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目17次，财产线条，此外企业还拥有行政许可4个。

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